隨著極紫外光微影(EUVL)將在今年大量使用,以及高數(shù)值孔徑(NA)版本的開(kāi)發(fā),現(xiàn)在正是預(yù)先準(zhǔn)備好下一步的時(shí)候了。
現(xiàn)在正是再次探討縮短波長(zhǎng)并了解其優(yōu)缺點(diǎn)的時(shí)候了。我們不知道13.5nm和1nm之間的最佳選擇,所以我將這種新技術(shù)選項(xiàng)稱為Blue-X——其波長(zhǎng)大約介于深藍(lán)極紫外光(EUV)微影和X射線之間。
縮短波長(zhǎng)是持續(xù)擴(kuò)展光學(xué)微影技術(shù)的一種選擇,著重在短于13.5nm波長(zhǎng)的光源和光學(xué)元件,這些將在不久的未來(lái)實(shí)現(xiàn)這一技術(shù)。
升級(jí)至0.5的更高數(shù)值孔徑(NA),將必須付出十分昂貴的代價(jià)。不僅工具成本將倍增至2.35億歐元,較大尺寸的掃描儀也需要更龐大的費(fèi)用來(lái)打造更大規(guī)模的晶圓廠。
一旦采用高數(shù)值孔徑作業(yè),在考慮更高數(shù)值孔徑帶來(lái)更高成本的同時(shí),也一并想到高數(shù)值孔徑的多重曝光,這樣可能更有意義。然而,縮短波長(zhǎng)不僅能縮減數(shù)值孔徑,從而有助于提高解析度,同時(shí)降低工具成本以及功耗要求。
以k1系數(shù)約0.3的單次曝光為例,在13.5nm波長(zhǎng)時(shí),0.33 NA達(dá)到12nm的解析度,而在0.5 NA時(shí)可提高到8nm。業(yè)界一度關(guān)注的波長(zhǎng)為6.7nm,但由于我們無(wú)法解決其功率問(wèn)題,使得該選項(xiàng)缺乏頻寬而被放棄了。
相較于采用6.7nm波長(zhǎng),從0.33升級(jí)至更高NA有其優(yōu)點(diǎn):它讓我們能保持相同的功率、多層(ML)和光罩等基礎(chǔ)設(shè)施。畢竟,同時(shí)承擔(dān)太多挑戰(zhàn)并不是個(gè)好辦法。
我們已經(jīng)了解如何根據(jù)雷射驅(qū)動(dòng)電漿(LPP)、光學(xué)元件、污染控制和光罩等方面調(diào)整功率了,接下來(lái)將能把這些學(xué)問(wèn)應(yīng)用于專為較短波長(zhǎng)設(shè)計(jì)的掃描儀上。因此,我認(rèn)為現(xiàn)在正是重新審視縮短波長(zhǎng)選項(xiàng)的時(shí)候了。我建議我們?cè)诳紤]其他技術(shù)選擇的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)時(shí),一路持續(xù)關(guān)注至1nm。
光源和光學(xué)挑戰(zhàn)
過(guò)去,我們已經(jīng)探索了11nm和6.6nm或6.7nm光源可能成為EUVL的較短波長(zhǎng)了。氙(Xenon)可以提供11nm,而針對(duì)6.X-nm,鋱(Tb)和釓(Gd)則被視為L(zhǎng)PP光源的材料源。
藉由增加目標(biāo)材料的原子量Z,我們可以持續(xù)從LPP光源取得越來(lái)越短波長(zhǎng)的光子。這些高Z材料并沒(méi)有單一波長(zhǎng)可發(fā)射,但有一組非常接近的未辨識(shí)轉(zhuǎn)換陣列(UTA)波長(zhǎng)。
總發(fā)射強(qiáng)度將對(duì)應(yīng)于UTA的總振蕩器強(qiáng)度,必須針對(duì)每一個(gè)可能的UTA評(píng)估其潛在的轉(zhuǎn)換效率。
這是一個(gè)很有意思的領(lǐng)域,提供了幾種有趣的功能,如晶片的K邊緣、碳窗(carbon window)和水窗(water widow)。針對(duì)水窗(X射線波長(zhǎng)范圍在2.34-4.4nm之間)近期已經(jīng)有許多關(guān)于顯微鏡應(yīng)用的開(kāi)發(fā)。
然而,在產(chǎn)生這種數(shù)百瓦較短波長(zhǎng)光子方面存在若干挑戰(zhàn)。最大的挑戰(zhàn)之一在于驅(qū)動(dòng)雷射所需的功率。針對(duì)6.X-nm,所需功率估計(jì)約為100kW,而13.5nm則需要~40kW。
我曾經(jīng)見(jiàn)過(guò)65kW CO2雷射的設(shè)計(jì),但由于功率要求很高,此時(shí)可能值得研究其他替代雷射技術(shù)了。俗稱「星戰(zhàn)計(jì)劃」(Star Wars)的美國(guó)政府戰(zhàn)略防御計(jì)劃目前采用的是1微米100kW雷射。
另一個(gè)具有吸引力的選擇是美國(guó)勞倫斯利弗莫爾國(guó)家實(shí)驗(yàn)室(Lawrence Livermore National Laboratory;LLNL)的1.2微米雷射。它可以調(diào)整至300kW,同時(shí)保持小于CO2雷射的尺寸。
當(dāng)然,我們還必須關(guān)注在1.2微米時(shí)的轉(zhuǎn)換效率(CE)。1微米Nd:YAG固態(tài)雷射的CE低于10微米CO2的CE。因此,在我們確定100kW驅(qū)動(dòng)雷射的最佳選擇之前,必須先弄清楚幾件事。
傳輸效率和光阻劑
為了保持與當(dāng)今掃描儀類似的傳輸效率,我們將會(huì)需要類似于現(xiàn)有的功率和ML反射率。我懷疑如果我們犧牲一部份在這些區(qū)域縮短波長(zhǎng)取得的增益,以縮短的波長(zhǎng)來(lái)看,功率要求和數(shù)值孔徑是否就能隨之降低。
6.7nm的ML反射率可能會(huì)類似于13.5nm,因而其成為一個(gè)理想選擇。而對(duì)于其他波長(zhǎng)的ML,獲得高反射率的挑戰(zhàn)將十分困難。
在Blue-X區(qū)域探索的各種不同波長(zhǎng)中,由于生物應(yīng)用的前景,水窗(2.34-4.4nm波長(zhǎng))已經(jīng)成為最主要的研究之一。例如OptiXfab最近展示用于水窗的ML收集器提升10倍性能,但反射率仍然不足30%,所以我們還有很長(zhǎng)的路要走。
對(duì)于較短波長(zhǎng)區(qū)域的ML,介面粗糙度似乎是提高反射率的限制之一。針對(duì)ML研究的新化學(xué)物質(zhì)可望有助于我們將反射率提高到可接受的數(shù)值。
正如一位ML專家所說(shuō)的,「我們喜歡有利的挑戰(zhàn)……還記得我們?cè)?3.5nm達(dá)到的成果吧?」對(duì)此,我將滿懷期待。讓我們看看在擁有強(qiáng)大UTA下,較短波長(zhǎng)可以為我們帶來(lái)什么。